本文通過一個電子產品的外殼點云的逆向造型實例講解UG中點云處理方法和規則外形的逆向造型基本原則，了解UG在處理不同的數據源下的逆向造型方法。掌握基本的外形拆分方法和外形判斷方法。

　　1. 正向造型法對大多CAD軟件來說，逆向造型和正向造型并沒有本質的區別，唯一的不同是數據來源不同。所以對于一些特定類型的造型，可以考慮用正向造型的方法來實現的。如下圖的點云(已轉成stl)，是nokia858手機的上殼，相對來說形狀是比較規則的，并且主要的幾個面構成也是比較直觀的，所以適合用正向造型的方法來進行。

　　首先，我們在開始造型之前，應該進行仔細的分析，想像出各個面的主要構成方法以及過渡的可能方式，這樣我們才能做到有的放矢。首先整體形狀是有一個圍側面(1)和頂面(7)以及一個類圓角面(2)構成，對于側面(1)，在造形之前我們可以猜測它是掃出的或是混成的。對于類似這樣頂面(7)，我一般強烈傾向于掃出面，對于(2)，一般用圓角搞定沒問題(注意必要的時候切換成conic類型的圓角以更擬合實際情況)。

　　然后看局部和過度，(3)的面初步猜測應該是頂面offset一定的距離生成，至于是否有呆后面的驗證。(5)面仔細觀查會發現和頂面并非一個面，所以需要另一個掃出面來擬合。(6)面比較難點，是個典型的過度，從頂部的級差過度到側面的消失，在目前來看可能的做法是作消失面，或者倒圓角(是否覺得不可思議?這里的判斷需要建立在想像和經驗上)。后面你會看到這個看似復雜的過度居然真的就可以用圓角搞定。(4)面什么難度，兩個軌跡的可變掃出就可以輕松搞定。下面我們就開始動手了。不管形狀如何，我想分型輪廓線應該是我們的工作的第一步。所以我們先作分型面，對于這個實體來說，分型面比較簡單就是一個圓弧拉伸面

　　然后用投影到分型面的方法來創建分型輪廓線，注意在草繪的時候利用已有的點云作參考。。。目測就行啦。

　　然后用投影到分型面的方法來創建分型輪廓線，注意在草繪的時候利用已有的點云作參考。。。目測就行啦。接著創建分中的脊線。注意這時候應該刻意把類圓角面部分去掉，也就是草繪成尖角的，這樣可以最后再作類圓角面以簡化構建工作。并且草繪最好由盡量少的簡單元素構成，比如圓弧和spline通常是比較好的選擇。注意兩個側面最好是類似的構成，在這里都是用一個圓弧構成。如下圖所示

　　對于另一個方向的脊線，因為沒有明顯的對稱性，創建的位置就有點考究了，通常建議在一些特殊的位置創建，比如最高點(這點的向量必然符合正交性的)。如下圖我們作一個通過脊線的最高點的基準面。然后用這個基準面到restyle下和點云相交出一條線作參考。

　　借助于上一步的參考線，我們可以方便的創建出另一條脊線，同樣的這條脊線也盡量用少而簡單的元素構成并且去掉類圓角部分。側面也用一條圓弧構成。目的自然也是為了圍側面創建的規則性。

　　這樣，我們就已經創建出了三條主干輪廓了。

　　我們創建的原則是簡單先行，在這些面中，顯然頂面是最簡單的，我們先來試試用可變掃出的結果如何。這個掃出面就用主脊線作軌跡，R260的圓弧作截面進行掃出，這樣就可以和上步創建的頂截面相吻合。

　　然后創建圍側面，為了觀查方便，我先把頂面的隱藏了，后面的步驟也是這樣，就不作特別說明了。因為側面的變化比較快，所以要適當在中間的部分添加一些控制截面。如下圖的兩個截面就是新添加的，詳細的添加方法看part，同樣用restyle的交線作參考側面用單一圓弧構成。

　　可以看到側面的圓弧的變化比較大并且沒有簡單的規律，所以只好放棄用可變掃出的方法改用混成，為此我們要作出如下圖的連線。

　　線作好了，面就簡單了

　　而對于底部的側面，就可以用restyle下的指令用一條軌跡和一個截面來掃出

　　然后就是延伸，合并，大體外形就出來了 .Offset做級差面

　　下面的圓角沒啥特殊的，注意控制的是大小

　　這個圓角一倒，是不是覺得神似了

　　完成這一步，實際上這模型的主要難題都解決了，剩下的工作就類似于體力勞動了，這里我也不再累述了，自己研究研究part就好。(仔細看別人的part好處多多阿)。

　　等基本外形完成后，你應該進行一下偏差分析，這一步可以借助第三方軟件或在proe中用截面線來進行。對于偏差太大的地方通過調整構造線來進行，必要時候添加額外的輔助線。但是切記，簡單就是好的，一般的產品曲面都是比較規則和簡單的。